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是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。
正空蒸发镀膜包括以下基本过程：
（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。
（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
（3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
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以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图
原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵
115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟
真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色
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