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KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。
三：主要技术要求
1． 控制方式：7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
2． 溅射电源：直流溅射电源
3． 镀膜功能：0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
4． 大功率：≤1000W
5． 大输出电压电流：电压≤1000V 电流≤1A
6． 真空度：机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa
7． 射频真空：≤10Pa
8． 挡板类型：电控
9． 真空腔室：石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm
10． 样品台：可旋转φ62 （大可安装φ50基底）
11． 样品台转速：8转/分钟
12． 样品溅射源调节距离：40-105mm
13． 真空测量：皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa）
14． 预留真空接口：KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口
仪器描述：
该产品为台式磁控溅射镀膜机，能够在非导电或导电不良的样品上涂布金（Au），钯（Pd），铂（Pt）和金/钯（Au / Pd）的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，使样品适用于扫描电子显微镜（SEM）分析。仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学，所得结果一致，可重复性高。
产品特点：
? 彩色触摸屏：数据输入简单快速
? 通过触摸屏中直观检测数据和曲线；历史页面可显示300个历史涂层信息。
? 可控镀膜速率，可得到更精细的晶粒结构
? 可手动或自动，根据时间或根据厚度进行溅射
? 样品台更换简单：标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转；行星式旋转样品台为多孔样品带来好的喷金效果。
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